موقعیت دکتری: لایه‌نشانی فیلم نازک چندلایه هیبریدی PVD/ALD برای هوانوردی پایدار

این موقعیت دکتری بر پیشبرد فناوری فیلم نازک دی‌الکتریک برای دستگاه‌های الکترونیکی ولتاژ بالا در صنعت هوانوردی تمرکز دارد و به چالش‌های تغییر اقلیم پاسخ می‌دهد. این پروژه ترکیبی از رسوب‌گذاری فیزیکی بخار (PVD) و لایه‌نشانی اتمی (ALD) را برای ایجاد نانولایه‌های چندلایه به کار می‌گیرد، با هدف دستیابی به استحکام دی‌الکتریک بی‌سابقه (>20 مگاولت بر سانتی‌متر) برای سیستم‌های قدرت ولتاژ بالای آینده. کاندیدای دکتری زمان خود را بین دانشگاه ناتینگهام (بریتانیا) و دانشگاه تولوز (فرانسه) تقسیم می‌کند و به بهینه‌سازی فرآیندهای رسوب‌گذاری، مشخصه‌یابی مواد و ارزیابی عملکرد الکتریکی می‌پردازد. این پژوهش با فعال‌سازی مبدل‌های با ولتاژ بالاتر و کاهش اتکا به سوخت‌های فسیلی، هوانوردی پایدار را هدف قرار می‌دهد. این موقعیت تحت برنامه MSCA COFUND BEST تامین مالی می‌شود و همکاری چندرشته‌ای را بین دو گروه پژوهشی پیشرو ارائه می‌دهد.