موقعیت دکتری روی خازنهای اکسید هافنیوم (HfO2) فروالکتریک و پادفروالکتریک
بررسی و مدلسازی دینامیک حوزهها در خازنهای فیلم نازک HfO2 دوپشده برای ذخیرهسازی پیشرفته انرژی و حافظه.
مناسب برای:مناسب برای پژوهشگران تحصیلات تکمیلی با پیشینه در میکروالکترونیک، علم مواد یا فیزیک حالت جامد که به دنبال مطالعه مواد دیالکتریک پیشرفته هستند.
مرور کلی
این موقعیت دکتری فرصتی هیجانانگیز برای کاوش در فناوریهای نوین ابرخازن و ذخیرهسازی انرژی هیبریدی در دانشگاه گرنوبل آلپ، به میزبانی آزمایشگاه CEA LETI فراهم میکند. تمرکز این پژوهش بر بررسی تجربی و مدلسازی فیزیکی خازنهای فیلم نازک اکسید هافنیوم (HfO2) با دوپینگ عمدی برای دستیابی به ویژگیهای فروالکتریک یا پادفروالکتریک است. نامزد موفق خازنهای فلز-عایق-فلز را میسازد، مشخصهیابیهای جامع الکتریکی را انجام میدهد و مدلهای فیزیکی توصیفکننده آرامش حوزه تحت تحریک الکتریکی را توسعه خواهد داد. هدف کلی بهینهسازی چگالی انرژی و بازده تبدیل برای سیستمهای یکپارچه سازگار با CMOS است.
نحوهٔ درخواست
برای دیدن امتیاز تطابق شخصی، نیازمندیها، جزئیات بودجه و نحوهٔ درخواست — به انگلیسی یا فارسی — حساب کاربری رایگان بساز.