PhD Monitor
/جزئیات
Materials Science and Microelectronics● بازPreview

موقعیت دکتری روی خازن‌های اکسید هافنیوم (HfO2) فروالکتریک و پادفروالکتریک

بررسی و مدل‌سازی دینامیک حوزه‌ها در خازن‌های فیلم نازک HfO2 دوپ‌شده برای ذخیره‌سازی پیشرفته انرژی و حافظه.

مناسب برای:مناسب برای پژوهشگران تحصیلات تکمیلی با پیشینه در میکروالکترونیک، علم مواد یا فیزیک حالت جامد که به دنبال مطالعه مواد دی‌الکتریک پیشرفته هستند.

UNIVERSITE GRENOBLE ALPES · Grenoble, France
استادان بیشتر در UNIVERSITE GRENOBLE ALPES
ذخیره‌سازی انرژیمیکروالکترونیکادوات نیمه‌هادیMEMSعلم مواد
مهلت
۳۱ اکتبر ۲۰۲۶
۱۶ روز
بودجه
حقوقی
شروع
—
مکان
Grenoble
France

مرور کلی

این موقعیت دکتری فرصتی هیجان‌انگیز برای کاوش در فناوری‌های نوین ابرخازن و ذخیره‌سازی انرژی هیبریدی در دانشگاه گرنوبل آلپ، به میزبانی آزمایشگاه CEA LETI فراهم می‌کند. تمرکز این پژوهش بر بررسی تجربی و مدل‌سازی فیزیکی خازن‌های فیلم نازک اکسید هافنیوم (HfO2) با دوپینگ عمدی برای دستیابی به ویژگی‌های فروالکتریک یا پادفروالکتریک است. نامزد موفق خازن‌های فلز-عایق-فلز را می‌سازد، مشخصه‌یابی‌های جامع الکتریکی را انجام می‌دهد و مدل‌های فیزیکی توصیف‌کننده آرامش حوزه تحت تحریک الکتریکی را توسعه خواهد داد. هدف کلی بهینه‌سازی چگالی انرژی و بازده تبدیل برای سیستم‌های یکپارچه سازگار با CMOS است.

فروالکتریکپادفروالکتریکاکسید هافنیومخازن‌هافیلم‌های نازکدینامیک حوزهذخیره‌سازی انرژیسازگاری با CMOS

نحوهٔ درخواست

آزمایشگاه
Laboratoire des Composants pour la RF et l'Energie
UNIVERSITE GRENOBLE ALPES
France
موقعیت کامل را ببین

برای دیدن امتیاز تطابق شخصی، نیازمندی‌ها، جزئیات بودجه و نحوهٔ درخواست — به انگلیسی یا فارسی — حساب کاربری رایگان بساز.

بدون نیاز به کارت بانکی · ۱۰ امتیاز تطابق AI رایگان
آماده‌اید؟
۱۶ روز تا مهلت — به این موقعیت اقدام کن.