PhD Monitor
/جزئیات
Materials Science and Nanotechnology● بازPreview

موقعیت دکتری در فناوری فرآیند برای نیمه‌هادی‌های دیجیتال نوین III-V

به Fraunhofer IAF بپیوندید تا فناوری‌های GaN-HEMT را برای نسل بعدی دستگاه‌های نیمه‌هادی دیجیتال پیش ببرید.

مناسب برای:مناسب برای فیزیکدانان، مهندسان برق یا دانشمندان علوم مواد با مدرک کارشناسی ارشد در فیزیک نیمه‌هادی، فناوری نانو/میکرو یا رشته‌های مرتبط که به تحقیقات تجربی و توسعه فرآیند برای دستگاه‌های نیمه‌هادی دیجیتال نسل آینده علاقه‌مند هستند.

Fraunhofer Society · Freiburg im Breisgau, Germany
استادان بیشتر در Fraunhofer Society
فناوری GaN-HEMTدستگاه‌های نیمه‌هادی III-Vفناوری فرآیند در میکروالکترونیکسوئیچینگ دیجیتال فرکانس بالااپیتاکسی و لیتوگرافیمشخصه‌یابی دستگاه‌های نیمه‌هادی
مهلت
—
بودجه
—
شروع
—
مکان
Freiburg im Breisgau
Germany

مرور کلی

این موقعیت دکتری در Fraunhofer IAF در فرایبورگ آلمان، بر پیشگامی در مفاهیم نوین نیمه‌هادی‌های دیجیتال III-V، به‌ویژه GaN-HEMTها تمرکز دارد. داوطلب موفق، تحقیقات پیشرفته‌ای را در زمینه فناوری فرآیند، شامل اچینگ، لیتوگرافی، اپیتاکسی و توسعه دستگاه انجام خواهد داد تا قطعات سوئیچینگ و تقویت‌کننده دیجیتال با فرکانس بالا را بهبود بخشد. این کار شامل آزمایش‌های عملی در محیط‌های اتاق تمیز، همکاری با شرکای ملی و بین‌المللی و مشارکت در پروژه‌های تحقیقاتی کاربردی است. این نقش برای فیزیکدانان، مهندسان برق یا دانشمندان علوم مواد با پایه قوی در فیزیک نیمه‌هادی و فناوری نانو/میکرو که به دنبال پیشبرد نوآوری در ساخت دستگاه‌های نیمه‌هادی هستند، ایده‌آل است.

دکتری فیزیک نیمه‌هادیتحقیقات GaN-HEMTدستگاه‌های نیمه‌هادی III-Vفناوری فرآیند اتاق تمیزفناوری نانو/میکروالکترونیک دیجیتالفیزیک حالت جامد کاربردیFraunhofer IAF

نحوهٔ درخواست

آزمایشگاه
IAF - Angewandte Festkörperphysik
Fraunhofer Society
Germany
موقعیت کامل را ببین

برای دیدن امتیاز تطابق شخصی، نیازمندی‌ها، جزئیات بودجه و نحوهٔ درخواست — به انگلیسی یا فارسی — حساب کاربری رایگان بساز.

بدون نیاز به کارت بانکی · ۱۰ امتیاز تطابق AI رایگان
آماده‌اید؟
به این موقعیت اقدام کن یا برای بعد ذخیره‌اش کن.