دکتری در متالورژیهای نوین برای اتصال هیبریدی با دمای پایین در بستهبندی سطح ویفر فن-اوت
کاوش در متالورژیهای نوآورانه برای اتصال هیبریدی با دمای پایین جهت پیشبرد فناوریهای بستهبندی میکروالکترونیک.
مناسب برای:مناسب برای فارغالتحصیلان کارشناسی ارشد در رشتههای علوم مواد، مهندسی مکانیک یا مهندسی شیمی با علاقه شدید به میکروالکترونیک و نوآوریهای متالورژیکی.
مرور کلی
این موقعیت دکتری در Université de Sherbrooke بر توسعه متالورژیهای جایگزین برای اتصال هیبریدی با دمای پایین در بستهبندی سطح ویفر فن-اوت (FOWLP) تمرکز دارد. این پروژه به چالشهای موجود در روشهای مبتنی بر مس، مانند اکسیداسیون و دمای بالای پردازش، میپردازد و هدف آن امکانپذیر ساختن سیستمهای میکروالکترونیک کارآمدتر و فشردهتر است. داوطلب در مؤسسه بینرشتهای نوآوری فناورانه (3IT) و C2MI به تحقیق پرداخته و با تیمهای چندرشتهای در محیطی پیشرفته همکاری خواهد کرد. این کار شامل مرور ادبیات، توسعه مواد، بهینهسازی فرآیند و مشخصهیابی رابطهای اتصال است. این فرصت برای مهندسان و دانشمندانی که مشتاق پیشرفت در فناوریهای میکروالکترونیک و بستهبندی هستند، ایدهآل است.
نحوهٔ درخواست
برای دیدن امتیاز تطابق شخصی، نیازمندیها، جزئیات بودجه و نحوهٔ درخواست — به انگلیسی یا فارسی — حساب کاربری رایگان بساز.