PhD Monitor
/جزئیات
علوم مواد و مهندسی میکروالکترونیک● بازPreview

دکتری در متالورژی‌های نوین برای اتصال هیبریدی با دمای پایین در بسته‌بندی سطح ویفر فن-اوت

کاوش در متالورژی‌های نوآورانه برای اتصال هیبریدی با دمای پایین جهت پیشبرد فناوری‌های بسته‌بندی میکروالکترونیک.

مناسب برای:مناسب برای فارغ‌التحصیلان کارشناسی ارشد در رشته‌های علوم مواد، مهندسی مکانیک یا مهندسی شیمی با علاقه شدید به میکروالکترونیک و نوآوری‌های متالورژیکی.

Université de Sherbrooke · Sherbrooke, Canada
استادان بیشتر در Université de Sherbrooke
اتصال هیبریدی با دمای پایینمتالورژی‌های جایگزین برای میکروالکترونیکبسته‌بندی سطح ویفر فن-اوت (FOWLP)کاهش اکسیداسیون مسمواد دی‌الکتریک چسبندهفناوری‌های اتصال میکروالکترونیک
مهلت
۳۰ دسامبر ۲۰۲۶
۷۶ روز
بودجه
—
شروع
—
مکان
Sherbrooke
Canada

مرور کلی

این موقعیت دکتری در Université de Sherbrooke بر توسعه متالورژی‌های جایگزین برای اتصال هیبریدی با دمای پایین در بسته‌بندی سطح ویفر فن-اوت (FOWLP) تمرکز دارد. این پروژه به چالش‌های موجود در روش‌های مبتنی بر مس، مانند اکسیداسیون و دمای بالای پردازش، می‌پردازد و هدف آن امکان‌پذیر ساختن سیستم‌های میکروالکترونیک کارآمدتر و فشرده‌تر است. داوطلب در مؤسسه بین‌رشته‌ای نوآوری فناورانه (3IT) و C2MI به تحقیق پرداخته و با تیم‌های چندرشته‌ای در محیطی پیشرفته همکاری خواهد کرد. این کار شامل مرور ادبیات، توسعه مواد، بهینه‌سازی فرآیند و مشخصه‌یابی رابط‌های اتصال است. این فرصت برای مهندسان و دانشمندانی که مشتاق پیشرفت در فناوری‌های میکروالکترونیک و بسته‌بندی هستند، ایده‌آل است.

دکتری میکروالکترونیکاتصال با دمای پایینمتالورژی‌های جایگزینFOWLPمهندسی موادتحقیقات در اتاق تمیزفناوری‌های اتصالبسته‌بندی میکروالکترونیک

نحوهٔ درخواست

آزمایشگاه
3IT and C2MI (Centre for Micro-Manufacturing and Innovation)
Université de Sherbrooke
Canada
موقعیت کامل را ببین

برای دیدن امتیاز تطابق شخصی، نیازمندی‌ها، جزئیات بودجه و نحوهٔ درخواست — به انگلیسی یا فارسی — حساب کاربری رایگان بساز.

بدون نیاز به کارت بانکی · ۱۰ امتیاز تطابق AI رایگان
آماده‌اید؟
۷۶ روز تا مهلت — به این موقعیت اقدام کن.