بهینه‌سازی آماری و کالیبراسیون مدل‌های لیتوگرافی

این موقعیت دکترا در Université Grenoble Alpes بر پیشبرد تکنیک‌های آماری برای بهینه‌سازی و کالیبراسیون مدل‌های لیتوگرافی که در تولید طرح‌های فتوماسک برای مدارهای میکروالکترونیکی با چگالی بالا استفاده می‌شوند، متمرکز است. کار به چالش‌های اصلاح نزدیکی نوری (OPC) می‌پردازد و با بهبود کارایی کالیبراسیون مدل، کاهش موانع جمع‌آوری داده و کاهش تغییرپذیری داده‌های تجربی، سعی در رفع این مشکلات دارد. پروژه در Laboratoire de Patterning Computationnel در Département des Plateformes Technologiques (LETI) میزبانی می‌شود، که یک مرکز پیشرو در میکروالکترونیک و فوتونیک است. متقاضیان به پژوهش‌های پیشرفته در تحلیل عددی و فوتونیک مشارکت خواهند کرد و به چالش‌های اساسی ساخت در تولید نیمه‌رساناها پرداخته می‌شود.